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（原标题：台积电2纳米泄密案，内情曝光）
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来源 ：内容编译自ec.ltn，谢谢。
台积电在先进制程进入「一个人的武林」，2纳米进入前所未有的大投资扩产，蚀刻是晶圆厂关键制程重要设备，一台高精密的蚀刻设备价格高达上亿元左右，每座2纳米厂需求蚀刻设备超过百台以上，商机庞大。
晶圆代工龙头厂台积电先进制程2纳米泄密案，检方查出祸因来自设备厂工程师为了收集资料改善蚀刻制程设备引起；设备业界透露，台积电在先进制程进入「一个人的武林」，因应国际客户对AI（人工智能）芯片的旺盛需求，2纳米进入前所未有的大投资扩产，蚀刻是晶圆厂关键制程重要设备，一台高精密的蚀刻设备价格高达上亿元左右，每座2纳米厂需求蚀刻设备超过百台以上，商机庞大，台积电采多元供应商策略，由美日三大厂分食大饼，为了争取量产后续订单，各家供应商需卯足全力改善设备，满足台积电量产需求，才能赢得更高的市占率，可说竞争激烈。
根据记者访查，台积电的采购策向来采多元供应，一则分散风险、二则可达议价效益，就半导体设备供应面，日商东京电子（TEL）在黄光制程微影涂布／显影机台设备市占率近100%，炉管设备市占率也达7-8成之多，在这两大关键设备，TEL很占竞争优势，可说是台积电不可或缺的重要供应商，即使台积电想采多元采购的策略，至今仍没有其他设备商可跟TEL一争高下；但在蚀刻设备领域，TEL就面临「三强鼎立」竞争局面。
台积电在2纳米蚀刻设备采购主要「三分天下」，三大供应厂商包括科林集团（Lam Research ）、应用材料（Applied Materials）及东京电子（TEL）；设备业界人士表示，蚀刻设备又分前段的导体设备、后段的非导体蚀刻设备，科林研发主要供应前段蚀刻设备，应用材料涵盖前后段，TEL较偏供应后段，台积电在先进制程进入「一个人的武林」，尤其2纳米更是独霸全球，因应国际客户对AI（人工智能）芯片的强劲需求，台积电进入前所未有的一代制程大扩产，2纳米家族包括台湾规划竹科2座厂、高雄投资5-6座，美国厂也将投产2纳米制程，因制程相当复杂，2纳米晶圆厂设备涵盖数百站点。
业界人士分析，蚀刻是晶圆厂关键制程重要设备，主要用于去除芯片表面不需要的材料，以形成所需的电路图案或其他微细结构；一台高精密的蚀刻设备价格高达3到4百万美元（相当于新台币上亿元左右），每座2纳米厂需求蚀刻设备超过百台以上，商机庞大，为了争取量产后续订单，各家供应商需卯足全力改善设备，满足台积电量产需求，才能赢得更高的市占率，可说竞争激烈。
据了解，台积电有增加供应商需求，TEL欲从蚀刻后段设备延伸到蚀刻前段设备，也就是分食台积电前段的导体蚀刻设备订单，但设备还需有改善空间，负责销售之一的陈力铭可能心急也求工作表现，找很有交情的台积电老同事吴秉骏及戈一平协助，透过远端登入台积电远端资料库系统，查看机密档案并翻拍制造流程图照片，作为改善蚀刻机台设备的参考依据，但拍摄太大量被台积电资安人员发觉有异，经内部调查并提告，高检署经调查后，近日将陈、吴、戈共3人起诉。
检方认为，此案涉及中国台湾产业命脉的国家核心关键技术，严重威胁半导体产业国际竞争力，3人犯罪情节重大，对陈力铭依涉营业秘密法「意图域外使用而窃取营业秘密」罪求刑5年、「窃取营业秘密」罪求刑3年、国家安全法「国家核心关键技术营业秘密之域外使用」罪求刑8年，应执行刑14年；吴秉骏涉「意图域外使用而窃取营业秘密」求刑4年、「国家核心关键技术营业秘密之域外使用罪」求刑7年，应执行刑9年；戈一平涉犯「国家核心关键技术营业秘密之域外使用」求刑7年。
设备业界表示，半导体业过去发生不少泄密案。台积电先进制程携手设备厂商共同合作开发是过去也常见的作法，但需引用图档改善设备则透过正式会议记录或高层拍板决定，工程师动用个人关系取得大量资料较不寻常。
不过，从台积电回应、检方起诉与TEL声明来看，对台积电营运并无损失，目前资料也未外流到第三方，台积电与TEL合作关系影响恐有限，但TEL如何「赔罪」将有待观察。
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